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공지사항

나노특화팹 장비 구축 계획 설명

  • 등록일 2005.08.29
  • 조회수 5011
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◆ 행사명 : 나노소자특화팹센터 장비구축 설명회
◆ 일 시 : 2004년 7월 21일(수 ) 오후 3시 ~ 4시
◆ 장 소 : 경기중소기업종합지원센터 1층 대회의실 (경기도 수원시 )
◆ 참석대상 : 국내·외 관련 장비 회사 (200여명 )
※ 관련장비
- 나노소자 공정장비 : Photo, Thin Film, RIE 등
- 특성 평가 장비 : SEM, TEM, SPM 등

나노소자특화팹센터(대표이사 : 李重原 )는 2004년 7월 21일(수 ) 오후 3시에 경기중소기업종합지원센터(경기도 수원시 이의동 ) 1층 대회의실에서 센터의 나노팹장비 구축 설명회를 개최할 계획이라고 밝혔다.
동 설명회는 나노소자특화팹센터의 장비 구축계획을 설명하고 구매대상장비 리스트, 구매 진행일정 및 발주 계획 등에 대한 설명과 질의응답 형식으로 진행될 예정이며, 국내·외 나노급 반도체 장비 및 소재관련 기업의 관계자 200여명이 참석할 것으로 예상된다. 이를 통해 장비 및 소재 관련업체들에게 사전에 계획을 설명함으로써 나노장비 관련기술의 정보교류와 나노장비 국산화 지원 및 개발 활성화를 촉진하고 투명하고 공정한 팹장비 구축을 진행하기 위해 마련하였으며, 센터 이용활성화를 위해 구성·운영할 계획인 이용자협의회의 산업부문 Network 구축 방안을 함께 논의할 예정이다.
나노소자특화팹센터의 장비는 3,600평 규모의 Fab동에 1,000평 규모의 청정실(Clean Room )을 설치하여 2007년까지 총 700여억원을 투자하여 2단계에 걸쳐 나노소자제작 및 시험, 분석, 측정, 가공에 필요한 연구장비를 일괄 확보하여 산·학·연 연구주체가 공동으로 활용하는 나노기술연구지원시설을 구축함으로서 국내·외 나노기술개발의 중심역할을 할 수 있도록 할 계획이다.
주요 시설별 장비구축 계획은
① 나노소자공정실(600평 )
- E-Beam Litho., Stepper, Aligner 등 나노급 패턴형성을 위한 Litho/Pattern실
- CVD, RIE, Sputter 등 전자·광소자 산업화지원을 위한 소자일괄라인
- Dry/Wet Process, RTA 등 각종 나노소자 제작지원을 위한 나노R&D라인
② 특성평가실(300평 ) : SPM, AFM, SEM 등의 나노구조 및 특성분석
③ 장비개발지원실(100평 ) : 나노측정 및 소자제작장비 개발지원
당 센터는 시설 및 장비구축을 병행 진행하여 2005년 12월부터는 시설 및 장비에 대한 서비스를 개시할 계획이며 2006년 2월에 연구·벤처동을 완공하여 나노기술개발 관련 기업체, 연구기관 등을 집적하여 원천기술의 개발에서부터 산업화 지원까지를 연계하여 지원해 나갈 계획이다.






※ 붙임 : 나노소자특화팹센터 장비구축 설명회 계획
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□ 문의 : 나노소자특화팹센터 전략기획부 유승진 031-259-6284