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패터닝기술

기술소개 공정기술 패터닝기술

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패터닝기술 나노소자 분석(3D-AFM)용 자동측정이 가능한 표준시료 제작 기술 ㆍ 2차원 MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) 구조를 3차원으로 확대시킨 FinFET 구조로 변경되는 등 고 집적화된 3차원 적층 통합구조의 3D 형상 측정 및 평가 장비/시스템 개발을 위해서는 50 nm 이하의 선폭 및 고 종횡비의 표준시료 제작 기술이 필수적임.
패터닝기술 나노임프린트 기반 나노홀 어레이 템플릿 제조기술 ㆍ 대면적의 Nano scale structure 구현을 위해서는 E-beam lithography 방식으로는 비용적인 측면에서 한계가 존재함. 그 대안으로 Nanoimprint lithography 방식을 통한 Wafer level의 SiO2 nano hole template을 구현한 결과임.
패터닝기술 극자외선 패턴 형성 기술 ㆍ 고해상도 나노구조체 형성 기술을 최적화하여 다양한 나노구조체 형성기술 확립.
패터닝기술 20nm 급 미세 전극 패턴 형성 기술 ㆍ 스마트기기의 발전과 사물인터넷의 영향으로 각종 센서소자들의 개발이 활발 하게 이루어 지고 있음
패터닝기술 20nm 급 3차원 구조체 형성 기술 ㆍ 신 성장동력산업으로 바이오 분야의 연구가 활발하게 이루어 지고 있음.
ㆍ 바이오테크놀로지 분야의 나노유체소자에는 보다 정밀한 분석 및 작용을 위하여 미세한 구조체가 요구 됨.

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