본문 바로가기

장비안내

장비현황상세정보

Si BEOL & GaN MPW

  • 장비아이디 FS-EM10
  • 장비명 Automatic Ellipsometer
  • Model AE-86, M-2000Xlc
  • Maker AIM, J.A.Woollam
  • 담당자 김대영
  • 연락처 031-546-6249
  • E-Mail daeyoung.kim@kanc.re.kr
  • 상 태 (수리중)

적용가능한 기판 정보

O (가능) / △ (협의필요) / X (불가능)

기판 종류 기판 Size 기판 Type 기판 두께
Si III-V Glass Flex 조각 2" 4" 6" 8" 12" 플랫 노치 Normal Special
O X X X O O O O O

장비사양(Hardware Specification)

ㆍ On-wafer Measurement

ㆍ Wafer size : 
   - 6, 8 inch (Auto)
   - 12 inch (Manual)

ㆍ Auto load/unload, Mapping

ㆍ Alignment system accuracy: center<0.1mm, angle<0.1º

ㆍ Spectral range: 245~1690 nm

ㆍ Incident angle: 65º

공정성능(Process Specification)

ㆍ Measurement thickness:
  - 1Å ~ 8μ (@SiO2)

ㆍ Measurement accuracy:
  - <1% (@SiO2 2nm/Si)

활용분야(Application)

ㆍ Thickness measurement of transparent films

ㆍ Refractive index measurement of transparent films

ㆍ Films: SiO2, Si3N4, SiON, Al2O3, HfO2, Ta2O5 ..