박막기술
| 기술명 | 전해도금 방식을 이용한 이황화몰리브덴 합성 기술 | ||
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| 요약 | ㆍ 그래핀과 같은 원자 두께의 2차원 결정 물질들은 우수한 특성 덕분에 많은 주목을 받고 있음 ㆍ 최근에는 우수한 전기적, 광학적 특성을 지닌 이황화 몰리브덴(MoS2, molybdenum disulfide)이 발견됨 ㆍ 2차원 이황화 몰리브덴 박막은 직접 천이 밴드갭을 가진 물질로써, 광전자 소자 영역에서의 무한한 잠재력을 바탕으로 새롭게 주목을 받고 있음. ㆍ 따라서 기존의 박리 방식이 아닌 고품질, 대면적의 이황화 몰리브덴을 합성하는 기술이 요구됨. |
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| 결과 | ㆍ 전기 도금 방식을 이용한 이황화몰리브덴 합성 확인 - 열처리를 통한 표면 반응 확인 (SEM, AFM) - 이황화몰리브덴 물성 확인 (XPS) - Deposition Saturation Current 확인 ㆍ 이황화몰리브덴 증착 개발 관련 발표 실적 - 2014/04 MRS 학회 발표 [Molybdenum Disulfide Thin Film Deposition by Electro Plating Synthesis] - 특허 출원 [전기도금 공정을 이용한 자기제어 이황화몰리브덴 단일층의 합성 방법 및 이에 의해 제조된 자기 제어 이황화몰리브덴 단일층을 이용한 트랜지스터] (국내출원 제10-2013-0168674호) |
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| 기술적가치 | ㆍ 천이 밴드갭을 갖는 이차원 물질의 대량 생산의 가능성을 제시함. ㆍ 그래핀과 같은 이차원 물질의 대체 혹은 융복합 공정의 가능성을 제시함 |
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| 활동분야 | ㆍ 나노 광학 소자 (LED, 태양전지, LD 등) ㆍ 나노 고속 소자 |
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| 기술관련문의 | ㆍ 공정서비스지원실 임웅선 선임 (031-546-6235, woongsun.lim@kanc.re.kr) | ||
