공지사항
E-Beam Lithography System 실습 희망자 모집공고
- 등록일 2007.03.12
- 조회수 18445
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나노소자특화팹센터 나노패터닝 장비 사용능력 배양을 위해 50KeV급 E-Beam Lithography System의 사용 희망자를 모집하오니 관심있는 분들의 많은 신청을 바랍니다.
- 아 래 -
○ 모집내용 : 50KeV급 E-Beam Lithography System 실습
○ 모집기간 : 2007. 3. 12 ~ 3. 30(3주간)
○ 모집정원 : 제한없음
○ 실습장비 : JBX-6000FS/E(50KeV, JEOL)
○ 실습일정 : 담당자와 협의하여 결정
○ 기간 : 5일(22시간), 담당자 일정에 따라 변동될 수 있음
○ 신청방법 : 첨부의 신청서 작성 후 담당자에게 이메일 송부
○ 비용 : 팹서비스 시간당 장비 이용수가 * 0.5
○ 실습내용 : 첨부 참조
○ 담당자 : 강호관 팀장(hkkang@kanc.re.kr)
○ 기타
- 개인별 최종실습일정은 담당자와 협의하여 결정됨
- 모집기간 이후 신청은 불허하며 실습시작 후 비용환불은 불가함
(정원미달 등으로 강좌가 취소될 수 있음)
- 실습 후 최종 TEST 실시하며 합격자에 한해 향후 직접 사용 가능
- 홈페이지 http://www.kanc.re.kr 참조
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