장비안내
Lithography
- 장비아이디 FL-ST10
- 장비명 KrF Stepper
- Model PAS5500
- Maker ASML
- 담당자 황선용
- 연락처 031-546-6338
- E-Mail seonyong.hwang@kanc.re.kr
- 상 태 ● (가동중)
적용가능한 기판 정보
O (가능) / △ (협의필요) / X (불가능)
| 기판 종류 | 기판 Size | 기판 Type | 기판 두께 | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Si | III-V | Glass | Flex | 조각 | 2" | 4" | 6" | 8" | 12" | 플랫 | 노치 | Normal | Special |
| O | △ | O | X | X | X | △ | △ | O | X | O | O | O | 1T |
장비사양(Hardware Specification)
ㆍ Light source : 248 nm KrF laser
ㆍ NA : 0.4~0.63
ㆍ Aperture: Annular, Conventional, Quadruple
ㆍ Reduction ratio = 1:4
ㆍ Throughput : 88 wph
(70 shots, 30mJ/cm2)
ㆍ Stage repeatability : ≤ 15nm
ㆍ Field size : Square 22mm X 22mm
ㆍ Rectangular 27.4mm X 14.7mm
ㆍ Wafer size : 8 inch (Notch, Flat)
공정성능(Process Specification)
ㆍ Min. line width : 0.15㎛ (L/S)
ㆍ CD uniformity : 22nm
ㆍ Overlay accuracy : 28 nm
활용분야(Application)
ㆍ Photo lithography for 0.15㎛ scale devices
ㆍ NEMS/MEMS sensor device
ㆍ Optical device
ㆍ Display device
