장비안내
Lithography
- 장비아이디 FQ-ST10
- 장비명 I-line Stepper II(양자팹)
- Model NSR-2005i10C
- Maker NIKON(일본)
- 담당자 김창환
- 연락처 031-546-6336
- E-Mail changhwan.kim@kanc.re.kr
- 상 태 ● (가동중)
적용가능한 기판 정보
O (가능) / △ (협의필요) / X (불가능)
| 기판 종류 | 기판 Size | 기판 Type | 기판 두께 | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Si | III-V | Glass | Flex | 조각 | 2" | 4" | 6" | 8" | 12" | 플랫 | 노치 | Normal | Special |
| O | O | O | △ | X | △ | O | X | X | X | O | X | O | 1T |
장비사양(Hardware Specification)
주요 성능 및 특징
ㆍ Light source : UV Lamp(1750W)
ㆍ Reduction Exposure(5x)
ㆍ Resolution : 0.45㎛(L/S)
ㆍ Wafer size : 4inch (2inch , 3inch 협의필요)
ㆍ Field size : 20mm X 20mm
공정성능(Process Specification)
ㆍ L/S Resolution wafer uniformity [AZ MIR-701 Photoresist(11cP)]
- 400nm line : AVG: 399.4 , uniformity : 2.79%
- 500nm line : AVG: 500 , uniformity : 0.0%
ㆍ L/S Resolution wafer to wafer [AZ MIR-701 Photoresist(11cP)]
- 400nm line : AVG: 399.4 , uniformity : 1.19%
- 500nm line : AVG: 499.8 , uniformity : 0.25%
활용분야(Application)
ㆍ Lithography
- Si , Glass , Quartz , GaAs , GaN , 사파이어 , 기타 등 기판 패터닝
- 초전도, 점 결함, 반도체, 광소자 등 다양한 큐비트 플랫폼에서 양자 현상을 발현할 수 있는 다양한 고집적 양자소자를 제작.
