장비안내
Si BEOL & GaN MPW
- 장비아이디 FS-WS10
- 장비명 Auto Wet Station
- Model SUN-L19-11
- Maker 썬패치테크노
- 담당자 김명준
- 연락처 031-546-6245
- E-Mail myeongjoon.kim@kanc.re.kr
- 상 태 ● (가동중)
적용가능한 기판 정보
O (가능) / △ (협의필요) / X (불가능)
| 기판 종류 | 기판 Size | 기판 Type | 기판 두께 | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Si | III-V | Glass | Flex | 조각 | 2" | 4" | 6" | 8" | 12" | 플랫 | 노치 | Normal | Special |
| O | △ | O | X | X | X | X | △ | O | X | O | O | O | △ |
장비사양(Hardware Specification)
ㆍ Bath size : 8 inch Teflon cassette (25slots)
ㆍ HF, HCl Bath (Auto)
- Material : PTFE
- Circulation : Yes
- Temperature : R/T
ㆍ Acid #1, #2 Bath (Manual)
- Material : PTFE
- Circulation : Yes
- Temperature : R/T
ㆍ QDR #1, #2, #3 Bath
- Material : PVDF
- Over Flow : Side over flow
- N2 Bubbling : 20ℓ/Min
- DIW : Shower, Supply
ㆍ Fianl Rinse #1, #2 Bath
- Material : PVDF
- Over Flow : Side over flow
- DIW : Supply, Resistivity
공정성능(Process Specification)
ㆍ HF : DIW = 1:100
ㆍ HCl : DIW = 1:10
ㆍ QDR rinsing (N2 bubble)
ㆍ Final rinsing
- Resistivity : >18.1 MΩ-㎝
활용분야(Application)
ㆍ Remove of native ox.
ㆍ Metal particle cleaning
ㆍ Wet etching, cleaning
