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모듈공정기술

기술소개 : 기술명, 주요결과, 활동분야, 기술관련문의, 플랫폼 기술자료로 구성
기술명 글라스 기판 기반 e-beam lithography (EBL) 공정 적용 나노구조 제작공정 기술
주요결과

 

EBL 및 Lift-off 공정 적용 나노구조체 형성

EBL 및 Dry etch 공정 적용 나노구조체 형성

EBL 및 Lift-off 공정 적용 나노구조체 형성(Metal-Insulator-Metal 나노구조 그림)

(Metal-Insulator-Metal 나노구조)

EBL 및 Dry etch 공정 적용 나노구조체 형성(Metal Hard Mask 적용 Poly Si 나노구조 그림)

(Metal Hard Mask 적용 Poly Si 나노구조)

활동분야 ㆍ 나노구조 기반 광학소자 또는 관련 응용 분야
기술관련문의 ㆍ 공정서비스지원실 이지환 책임 (031-546-6226, heekwan.lee@kanc.re.kr)
플랫폼 기술자료