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패터닝기술

기술소개 : 기술명, 요약, 결과, 사진, 기술적가치, 활동분야, 기술관련문의로 구성
기술명 극자외선 패턴 형성 기술
요약 ㆍ 고해상도 나노구조체 형성 기술을 최적화하여 다양한 나노구조체 형성기술 확립.
결과 ㆍ 극자외선 노광공정을 이용하여 다양한 종류의 패턴 형성 공정 조건을 확립
사진

ㆍ 대면적 나노 패턴 공정 최적화(Nanohole/pillar/line)
대면적 나노 패턴 공정 최적화(Nanohole/pillar/line)

ㆍ CD Reduction Technology (Litho-Etch-Litho-Etch process)
CD Reduction Technology (Litho-Etch-Litho-Etch process)

기술적가치 ㆍ High density 패턴 공정 최적화를 통한 다양한 나노패턴 형성
활동분야 ㆍ 반도체 응용분야, 바이오센서
기술관련문의 ㆍ 공정서비스지원실 이지환 책임 (031-546-6226, heekwan.lee@kanc.re.kr)