본문 바로가기

시설현황

연구시설 및 장비현황

건물현황
지상 16층 지하 2층
  • FAB &CUB동(9,641m²) : 클린룸 (3,450m²) 및 시설동(6,191m²)
  • 연구벤처동(40,753m²) : 공동협력센터(KIST 등 8개 연구기관) 및 나노관련기업, 연구기관, 학교 등 입주 중
장비현황
총 200여대(취득금액 약 600억원)

연구개발(R&D)

  • 나노리소패턴 지원라인
    • 나노패턴 형성 공정
    • 보유장비 : E-beam lithogtaphy, KrF, stepper Aligner, Nano-Imprinter 등
  • 나노R&D 지원라인
    • 에피 및 증착공정
    • 보유장비 : MOCVD, MBE, Evaporator, Wet-station 등
  • 특성평가 지원라인
    • 표면, 구조 및 특성 분석
    • 보유장비 : TEM, FIB, SEM CL 및 AFM 등

산업화

  • SI&MEMS 지원라인
    • 8 기반의 Si&MEMS 공정
    • 보유장비 : I-line Stepper, CD-SEM, Sputter, Wet-station 등
  • 나노산업화 지원라인
    • 산업화 지원을 위한 증착 및 에칭 공정
    • 보유장비 : Implanter, Sputter, LPCVD, ICP Etcher 등
  • 후공정 지원라인
    • 후공정 및 신뢰성 측정
    • 보유장비 : Wire bonder, Dicing machine, Prober, 신뢰성 측정장비 등

Wafer Device

홈페이지 만족도
이 페이지에 제공하는 정보에 만족하셨습니까? 현재 페이지의 만족도를 평가해 주시고 고객님의 의견을 남겨주세요.
홈페이지 만족도 조사